Корзина
57 отзывов
Контакты
Заправка картриджей в Киеве, прошивка и ремонт принтеров Samsung, Xerox, HP, Canon, Brother.
Наличие документов
Знак Наличие документов означает, что компания загрузила свидетельство о государственной регистрации для подтверждения своего юридического статуса компании или физического лица-предпринимателя.
+38044222-80-78
+38063616-03-47
+38067236-71-64
Валентин Кравченко
УкраинаКиевСЕРВИСНЫЙ ЦЕНТР №1: Оболонь, улица Северная 1, 2 этаж (500 метров от метро Героев Днепра). СЕРВИСНЫЙ ЦЕНТР №2: Печерск, Бульвар Дружбы Народов 17-А, офис 4 (300 метров от метро Дружбы Народов). ПЕРЕД ПРИЕЗДОМ В СЕРВИС - ПРЕДВАРИТЕЛЬНО ЗВОНИТЕ!
Карта

ASML, Canon и Nikon: EUV-литография это будущее!

ASML, Canon и Nikon: EUV-литография это будущее!

ASML, Canon и Nikon предъявили участникам собственные перспективные разработки, возложив на себя неофициальную корону лидера «литографической гонки». С их среднесрочными планами мы вас и познакомим.

В г. Сан-Хосе состоялась конференция, SPIE Advanced Lithography, которая подразумевала широкий круг обсуждаемых тем. Отражая возросший за последний год градус нервозности, основные вопросы участников сводились к следующим трем: успеют ли производители литографического оборудования разработать EUV-сканеры для выпуска микросхем по 22-нм проектным нормам в срок? Что ожидает промышленность, если не успеют? Есть ли альтернатива EUV-литографии для техпроцесса с размером элементов 22-нм и менее?

Согласно общему мнению участников конференции, реальных альтернатив EUV-литографии в производстве микросхем по 22-нм проектным нормам и менее не существует. Ни одна из других обсуждаемых методик (нано-импринт литография и различные схемы двойного экспонирования для оптической литографии) не может считаться реальным претендентом на звание «основного способа производства» микросхем за пределами 32-нм техпроцесса. Сразу три компании ASML, Canon и Nikon предъявили участникам собственные перспективные разработки, возложив на себя неофициальную корону лидера «литографической гонки». С их среднесрочными планами мы вас и познакомим.

Исполнительный вице-президент голландской компания ASML Мартин ван ден Бринк заявил о пяти заказах на тестовые литографические установки с использованием жесткого ультрафиолета. Компания отказывается назвать заказчиков и стоимость заказов, однако, по мнению экспертов, каждый EUV-сканер обойдется клиентам в 50 — 70 миллионов долларов США. Следующим шагом компании станет выпуск сканеров с числовой апертурой проекционной линзы равной 0,32 и производительностью до 100 подложек в час в 2011 году.

От голландского коллеги не отстает японская Nikon. Несмотря на некоторые досадные задержки, компания в целом, достаточно успешно продвигается по пути освоения новой технологии. Nikon разработала и смонтировала два тестовых EUV-сканера для компаний Selete и Intel. В прошлом году Nikon поделилась сведениями о готовящихся к выходу сканерах EUV1 и EUV2, предназначенных по большей части для исследовательской работы. Сканер, пригодный для массовой обработки подложек (EUV3) с числовой апертурой менее 0,3, размером операционного поля 26 x 33 мм и мощностью 100 подложек в час намечен к выпуску в 2012 году.

Еще один японский производитель оборудования для литографии — компания Canon Inc., уже отличилась в рамках упомянутой конференции новой моделью EUV-сканера, однако последняя, обладая малым операционным полем (0,2 х 0,6 мм), относится к категории научно-исследовательского оборудования и непригодна для коммерческого использования. Сканер способен наносить на подложку изолированные 24-нм элементы.

 

facebook twitter

заправка картриджей xerox

Предыдущие статьи